新聞資訊

2020-08-03

蘇大維格在虛實融合真3D顯示領域取得進展

陳林森、喬文團隊在Nanophotonics上發表論文,采用變周期、變取向的像素化納米結構重構三維光場信息,實現了32英寸、寬視場、彩色且具有運動視差的三維動態虛實融合顯示。該系統有望運用于教育、通訊、產品設計、廣告和抬頭顯示(HUD)等領域。

2020-08-03

蘇大維格榮獲首批“蘇州生產性服務業領軍企業”榮譽稱號

7月18日,蘇州市生產性服務業推進大會在工業園區國際博覽中心召開,本次會議以“深度融合、精準賦能,勇攀生產性服務業新高峰”為主題,全市各級政府部門、領軍企業、創投機構、行業協會等代表出席會議,市委書記藍紹敏發表講話,蘇州市委副書記、市長李亞平主持會議并部署工作。

2020-08-03

聚力人才引育,打造創新高地!第八期民營企業家月度沙龍舉行

7月25日,第八期民營企業家月度沙龍舉行。蘇州市委常委、副市長洪宗明,蘇州市委常委、統戰部部長姚林榮,蘇州市副市長陸春云,蘇州市政協副主席陳林森、李贊出席活動。

2020-07-07

直寫,讓光刻變得更簡單!蘇大維格亮相SEMICON China 2020

眾所周知,光刻設備是半導體制造環節的核心設備之一。秉承“直寫,讓光刻變得更簡單”的理念,蘇大維格集團始終立足市場需求,不斷實現突破。自主研發的圖形化直寫系統,應用空間光調制(SLM)技術和位相調制(PLM)技術,實現亞微米直寫光刻。

 

背光模組超薄導光板(膜)

熱壓印工藝將精密模具上微結構復制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光學網點結構有效地將全內反射進入導光板(膜)光線導出表面。通過微結構優化中大尺寸導光板(膜),光線從接近正出射角度導出,亮度更高,更均勻。

 

大尺寸透明導電膜(模組)

“基于柔性納米壓印技術”的新型透明導電膜制造技術,采用micro-metal-mesh(M3)制程工藝,顛覆了精密電路需要蝕刻的傳統工藝,通過納米壓印和增材制造(選擇性生長),獲得大幅面高性能透明導電膜和自支撐透明導電材料

 

創新 + 資本+ 產業的官助民營新型研究院

蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司

 

總部

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最新公告

2019-04-08

蘇大維格喜獲2018年度江蘇省科學技術獎一等獎

蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司(以下簡稱“公司”)于近日收到江蘇 省人民政府下發的《省政府關于 2018 年度江蘇省科學技術獎勵的決定》[蘇政發 (2019)22 號],公司獲得 2018 年度江蘇省科學技術獎一等獎。

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2019-01-09

項目介紹:面向微納3D形貌的紫外光刻直寫技術與設備

超薄化、輕量化意味著微納結構的運用。然而,大面積3D微納結構的設計與制造面臨巨大挑戰。首先,大面積3D微納結構涉及海量數據處理與設計。例如,一個超薄導光器件上的微透鏡有數千萬個以上;一件口徑10mm以上的超透鏡,含有數十億到數百億個數據單元;一幅大尺寸透明電路傳感器涉及數十Tb以上的數據量;大口徑薄膜成像透鏡涉及精確3D形貌,數據量會數量級增大;第二,將設計數據轉換成微納結構的途徑與效率。如何將這么龐大數據直接轉換成微納3D結構?不僅需要高速率海量數據并行處理、壓縮、傳輸與轉化技術,還需轉換系統的高精度、可調性與可靠性;第三,先進工藝技術保障。大面積襯底伴隨著不平整度遠大于光刻系統的焦深,因此,必須解決襯底不平整性對微結構分辨率和保真度的影響,解決與成像焦深的矛盾,才能實現高保真3D微結構的高效率制備。

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2019-01-09

項目介紹:光場調控的納米光刻設備NanoCrystal200

研究表明,微納尺度界面與光電子相互作用產生的效應,是設計超材料、超表面的新途徑。微納結構制造技術是實現薄膜成像、透明導電、電磁隱身等技術基礎。由于3D 形貌及其排列精度對光子材料與器件的特性有極其重要的影響,因而,在大面積襯底上實現納米精度的微納結構的高效制備,一直是國際關注的重大共性難題。

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2019-01-09

項目介紹:微納3D打印/光刻技術與設備

在微結構打印方案中,已有的3D打印技術存在諸多限制,未有效解決器件尺寸與精度之間的矛盾、也存在3D結構打印保真度與可靠性不協調的難題。1、利用超快激光的“雙光子效應”的3D打印,分辨率可達0.1微米,但串行寫入模式,效率極低、對環境穩定性要求極高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗時太長,所以,可靠性降低;受制于非線性材料特性和處理工藝,打印一致性很難保障;2、光固化3D打?。⊿LA),利用膠槽供膠與DLP投影光逐層打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面積數毫米。由于累積曝光效應,對膠槽中光固化膠的吸收特性有嚴格要求,易導致打印的結構展寬,尤其對大深寬比微結構的打印,失真嚴重。

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